無論是結露還是嚴重的化學污染都不影響測量的快速性和準確度，即便是高達100公斤的壓力及持續性的高濕環境，對EE32/33系列都不成問題。

EE32/33系列的核心是新的HMC1型可加熱測量單元，由E+E公司采用薄膜技術制造。

HMC1測量元件的**設計可將化學污染物和露水蒸發。傳感器的單片集成電路結構保證其迅速恢復至正常狀態以及測量的持續性。

另外，利用E+E特有的敏感元件鍍膜技術，HMC1測量單元可以更有效地抵抗腐蝕性物質及導電介質。

通過選擇不同的型號和安裝方式，EE32/33系列可應用于各種不同的領域。

- 暫時結露過程中測量相對濕度:

測量單元被短暫強烈加熱

- 在持續高濕環境中測量露點溫度 (**EE33):

測量單元被持續控制和加熱

- 在持續高濕環境中測量相對濕度:

測量單元被持續控制和加熱;并附加溫度敏感元件

- 在嚴重化學污染和一般濕度環境中測量相對濕度 :

測量單元被短暫強烈加熱

- 在高達100公斤壓力和一般濕度環境中測量相對濕度 :

測量單元被安裝在一個特殊的耐高壓探頭中

利用隨機提供的配置軟件，用戶可自由設定變送器工作/傳感探頭的加熱模式，以及

電路輸出選擇和調整。

    型號                                                                    環境條件

A   -  墻面安裝                                              化學污染，暫時性結露 

B   -  管道安裝                                               化學污染，暫時性結露 

C   -  分體探頭，溫度上限120°C               化學污染，暫時性結露 

D   -  分體探頭，溫度上限180°C               化學污染，暫時性結露 

E   -   分體探頭，耐受壓力15bar                 化學污染，暫時性結露 

I     -   分體探頭，耐受壓力100bar              化學污染，暫時性結露 

J    -  雙分體探頭 (相對濕度RH測量)                持續高濕結露 

K   -   分體探頭 (露點Td測量)                           持續高濕結露 

典型應用                                                            特點

制藥和食品工業                                                可加熱測量單元

制陶、木材、混凝土和聚酯等的干燥      工作范圍0...100% RH / -40...+180°C

蘑菇種植                                                              測量近結露狀態

高濕儲藏室                                                           結露后迅速恢復

環境試驗箱、食物加工箱                                 迅速去除化學污染物

氣象                                                                    耐受壓力*高達100公斤

計算多種濕度參數

可選敏感元件鍍膜